拋光液是用于精密、超精密加工（比如半導體晶圓）的CMP耗材，是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑。拋光液成分是由拋光粉磨料加上水基或油基的底液制備而成的懸浮液。里面除了有微米級和納米級的磨料，還有一些輔助添加劑比如活性劑、分散劑、氧化劑等等。

  根據拋磨工件材質不同拋光液往往呈現一定的酸性或堿性，酸堿度是用于軟化工件表面以加速磨削，減少對工件的沖擊劃傷，對人的皮膚有輕微腐蝕性，工作時可戴上防腐手套，防腐衣服等做好防護工作。不過隨著技術進步和配液方式改進，中性PH的拋光液產品也越來越多，具有無毒，無腐蝕，不易變質等性能，正確使用cmp拋光液對機臺和皮膚的傷害幾乎不存在。

  吉致電子拋光液的主要產品成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）、氧化硅拋光液（CMP拋光液）、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等。環保完全無異味，達到安全排放標準。

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