氧化硅拋光液的主要成分是高純二氧化硅粉為，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光液。氧化硅溶液其實就是市面上的硅溶膠，當然是二次加工后的硅溶膠。因為硅溶膠是膠狀的，不能直接研磨拋光。這項技術的主要應用是CMP半導體拋光。該技術在相對早期階段就已存在，但市場應用范圍較窄。

       氧化硅外觀為乳白色懸浮液，呈堿性、中性、酸性。一般時間長了不會有沉淀，但是暴露在空氣中很快就會結晶，有一定的腐蝕性。不銹鋼工件在二氧化硅環境中容易生銹，拋光工件時應及時清洗掉二氧化硅溶液。

       二氧化硅拋光液主要運用在什么領域呢？現在拋光不銹鋼、半導體、鋁合金、銅等工件時用到氧化硅拋光液的機會還是很多的。原理主要是二氧化硅的表面積比較大，并且是一種軟性拋光材料，去除率快拋磨亮度高，不會對工件造成二次劃傷。

       氧化硅拋光液如何保存？氧化硅怕光怕熱，在光性和高溫環境下容易變質和結晶，產生異味、沉淀或者漂浮物，所以硅溶膠漿料是有保質期的，需要避光存放并在一年內使用完，存儲不當或逾期使用會對工件和機臺造成損傷。

吉致電子專業生產CMP拋光產品，氧化硅拋光液有成熟穩定的產品，可使用在金屬或非金屬工件的拋光工序中，有拋光相關問題歡迎咨詢：17706168670 專業團隊24小時為您服務！

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