吉致電子納米氧化硅拋光液的特點:

1，可提高工件拋光速率和平坦度加工質量，氧化硅拋光液采用高純納米二氧化硅（SiO₂）磨料及多種復合材料配置而成，不會對工件造成物理損傷，拋光率高。

2，利用均勻分散的膠體二氧化硅粒子顆粒達到高速拋光的目的。

3，硅溶膠純度高，拋光液不腐蝕設備，無毒無害使用安全性能高。

4，CMP拋光液可實現工件的高平坦化加工。

5，有效減少拋光后的表面劃痕，降低表面粗糙度。

吉致電子通過科學工藝分散均勻的氧化硅顆粒，得到均勻分散的納米拋光液，具有高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐磨性等特點，是一種性能優良的CMP技術用的拋光材料。采購CMP拋光液認準吉致電子拋光液生產廠家。

本文由無錫吉致電子科技原創，版權歸無錫吉致電子科技，未經允許，不得轉載，轉載需附出處及原文鏈接。http://www.83835.net/

無錫吉致電子科技有限公司

聯系電話：17706168670

郵編：214000

地址：江蘇省無錫市新吳區行創四路19-2