鈮酸鋰晶體LiNbO₃化學機械拋光液能夠顯著降低工件表面粗糙度。在CMP化學機械加工工藝的優化下LN鈮酸鋰工件表面粗糙度得以快速降低，獲得超光滑、無損傷的表面。表面粗糙度低不僅提高了工件的外觀質量，更重要的是符合鈮酸鋰晶片高精度加工的嚴格需求。在一些對表面精度要求極高的應用領域，如光電子器件制造中，低表面粗糙度可以有效提高光的傳輸效率，減少散射損耗，提升器件的性能和可靠性。例如，在集成光路中，低損耗和高折射率對比度的光波導是構建大規模光子集成芯片的最基本單元，而超光滑的鈮酸鋰表面能夠為光波導提供更好的性能支持。

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   鈮酸鋰晶體化學機械LN拋光液作為一種關鍵的半導體加工材料，以其卓越的性能和廣泛的適用性，在半導體、光學等多個領域發揮著重要作用。吉致電子研發生產的鈮酸鋰拋光液在保證產品質量的同時，實現了本土化生產。為半導體行業/鈮酸鋰晶體晶圓制備的化學機械拋光液/Slurry組合漿料，適用于LiNbO₃精密/超精密領域的平坦化高效加工。設計滿足鈮酸鋰（LiNbO3）晶圓提高材料去除率，降低表面粗糙度，獲得超光滑表面。PH、粒徑、穩定離子等可以根據要求定制，適合與各種cmp拋光墊配合使用。

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