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[吉致動態]吉致藍寶石研磨液--高效研磨與拋光的理想選擇[ 2024-09-27 17:25 ]

藍寶石研磨液:高效研磨與拋光的理想選擇藍寶石研磨液，作為一種在精密加工領域中發揮著重要作用的研磨材料，主要用于藍寶石襯底的研磨和減薄，以實現其表面的高精度和高質量處理。一，組成成分藍寶石研磨液主要由以下幾部分組成:1.優質聚晶金剛石微粉:這是研磨液的核心磨料，具有極高的硬度和耐磨性，能夠有效地去除藍寶石表面的材料，實現高效研磨。聚晶金剛石的獨特結構使其在研磨過程中能夠保持良好的切削性能，同時減少對工件表面的劃傷2.復合分散劑:其作用是確保聚晶金剛石微粉能夠均勻地分散在研磨液中，避免顆粒團聚,從而保證研磨液的穩定性和

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[吉致動態]藍寶石研磨液在CMP襯底工件的應用[ 2024-02-23 14:34 ]

藍寶石研磨液(又稱為藍寶石拋光液)是用于在藍寶石襯底的減薄和研磨拋光。藍寶石研磨液由金剛石微粉、復合分散劑和分散介質組成。藍寶石研磨液利用聚晶金剛石的特性，在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時不易對工件表面產生劃傷。金剛石研磨液可以應用在藍寶石襯底的研磨和減薄、光學晶體、硬質玻璃、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領域的研磨和拋光。吉致電子藍寶石研磨液在藍寶石襯底方面的應用:1.外延片生產前襯底的雙面研磨:用于藍寶石研磨一道或多道工序，根據最終藍寶石襯底研磨要求用6um、3

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[吉致動態]吉致電子---常見的半導體研磨液有哪些[ 2023-07-31 17:23 ]

吉致電子半導體研磨液有哪些？常見的CMP研磨液有氧化鋁研磨液，金剛石研磨液，藍寶石研磨液。分別用于磨削工件、半導體制程、光學玻璃晶圓等工件加工。其中金剛石研磨液，它的硬度非常高，性能穩定切削力強，被廣泛應用于led工業、半導體產業、光學玻璃和寶石加工業、機械加工業等不同行業中。研磨液是半導體加工生產過程中的一項非常重要工藝，它主要是通過CMP研磨液混配磨料的方式對半導體表面進行精密加工，達到平坦度。研磨液是影響半導體表面工作質量的重要經濟因素。吉致電子用經驗和技術服務每一位客戶，有CMP

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[行業資訊]藍寶石窗口平面加工--藍寶石研磨液[ 2023-05-09 17:07 ]

藍寶石平面視窗、精密質量藍寶石視窗、高精度質量藍寶石視窗是為各種光學、機械和電子應用提供了強度、耐磨性、化學惰性適用于光學和激光應用，這些藍寶石窗口設計用于關鍵的光學和激光應用。藍寶石窗口的制程中關鍵步驟需要用到CMP研磨拋光工藝，藍寶石研磨液適合用于大批量藍寶石窗口的生產應用。藍寶石拋光液以高純度氧化硅原料制備而成，具有懸浮性好，不易結晶，易清洗等特點。用于藍寶石工件的鏡面研磨，研磨后的工件表面粗糙度低，無劃傷，表面質量度高。吉致電子生產研發的藍寶石窗口CMP拋光研磨液，性能穩

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[常見問題]藍寶石晶圓怎么研磨--sapphire wafer拋光液實現高平坦度表面[ 2023-04-26 11:10 ]

吉致電子藍寶石研磨液sapphire slurry又稱為藍寶石拋光液。專業用于藍寶石襯底、外延片、窗口、藍寶石wafer的減薄和拋光。藍寶石拋光液由純度高的磨粒、復合分散劑和分散介質組成，具有穩定性高、不沉降不易結晶、拋光速度快的優點。通過CMP工藝搭配藍寶石專用slurry可實現藍寶石晶圓的高平坦度加工,吉致電子拋光液利用納米SiO2粒子研磨表面,不會對加工件造成物理損傷,達到精密加工。藍寶石CMP拋光液的低金屬的成分，可以有效防止產品受到污染。 &n

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[行業資訊]吉致電子藍寶石研磨液CMP減薄工藝[ 2022-11-30 17:01 ]

藍寶石研磨液/拋光液，是通過化學機械拋光技術（CMP Chemical Mechanical Polishing ）用于藍寶石襯底、窗口片的研磨和減薄，達到減薄尺寸、表面平坦化效果。吉致電子藍寶石研磨液由優質聚晶金剛石微粉、復合分散劑和分散介質組成。藍寶石研磨液利用聚晶金剛石的特性，在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時不易對工件產生劃傷。吉致電子藍寶石研磨液、CMP拋光液可以應用在藍寶石襯底的研磨和減薄、光學晶體、硬質玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領域的研

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