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[行業資訊]納米拋光液---吉致電子氧化硅slurry的應用及特點[ 2024-10-10 16:56 ]

吉致電子納米級氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型CMP拋光產品。粒度均一的SiO2磨料顆粒在CMP研磨過程中分散均勻，能達到快速拋光的目的且不會對加工件造成物理損傷。納米級硅溶膠拋光液不易腐蝕設備，提高了使用的安全性。制備工藝和配方有效提高了平坦化加工速率，快速降低表面粗糙度，且工件表面劃傷少。吉致電子氧化硅slurry粒徑分布可控，根據不同的拋光需求，生產出不同粒徑大小的納米氧化硅拋光液，粒徑范圍通常在 5-100nm 之間。以氧化硅為磨料的納米拋

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[常見問題]二氧化硅拋光液與硅溶膠拋光液有啥不同[ 2023-08-11 16:04 ]

二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經特殊工藝制備成的一種低金屬離子高純度CMP拋光產品。硅溶膠拋光液是以液體形式存在，直徑為10-150nm的二氧化硅粒子（分散相）在水或有機液體（分散介質）里的分散體系，粒子的形貌多為球形，適用于各類工件的鏡面拋光，如金屬、藍寶石襯底、半導體、光學玻璃、精密電子元器件等的鏡面拋光。本質上講二氧化硅拋光液、硅溶膠拋光液都是一種東西，主要成分都是SiO2只是叫法不同。在CMP研磨拋光工藝中，機器通過壓力泵把氧化硅拋光液輸送到拋光槽內進行循環使用，

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[常見問題]如何解決氧化硅拋光液結晶問題[ 2023-05-09 17:17 ]

二氧化硅拋光液在拋光過程中會出現結晶結塊的現象，雖然不是大問題但如果處理不當，很可能會導致工件表面劃傷甚至報廢，那么怎么解決氧化硅拋光液結晶問題呢？首先要了解硅溶膠拋光液的特點屬性。二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經水解法離子、交換法制備成的一種高純度低金屬離子型產品。在水性環境中容易形成一種離子網狀結構，而一脫離了水份，表面積迅速凝結形成結晶塊，所以只要保持水分基本上是不會出現結晶現象。在實際CMP拋光工藝當中硅溶膠拋光液會一直在研磨盤轉動、流動，結晶情況較少。因此氧化

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[吉致動態]CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優點[ 2023-03-03 09:15 ]

通?；瘜W機械研磨拋光工藝使用的CMP拋光液有金剛石拋光液、氧化硅拋光液、氧化鋁拋光液及氧化鈰拋光液（又稱稀土拋光液）。納米氧化鈰為水性液體是吉致電子采用先進的分散工藝，將納米氧化鈰粉體分散在水相介質中，形成高度分散化、均勻化和穩定化的納米氧化鈰水性懸浮液。1.在拋光材料應用中，納米CeO2拋光液相對硅溶膠，具有拋光劃傷少、拋光速度快、易清洗良品率高等優勢，且PH中性，使用壽命長、對拋光表面污染小，不易風干。2.在拋光軍用紅外激光硅片、異型硅、超薄硅片方面上，尤其是拋光超薄硅片，納米氧化鈰

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[常見問題]SiO2二氧化硅拋光液--硅溶膠粒徑大小的區別[ 2023-01-06 16:24 ]

二氧化硅拋光液SiO2 Slurry的制備中主要成分是納米硅溶膠，一般分為大粒徑硅溶膠和小粒徑硅溶膠，那么怎么定義硅溶膠粒徑大小呢，吉致電子小編為您詳解：大粒徑硅溶膠與小粒徑硅溶膠的定義 CMP精拋液中納米硅溶膠顆粒的粒徑為10-50nm，這個粒徑范圍的硅溶膠在市場上最常見，價格也相對便宜。如果對硅溶膠的純度和pH值沒有特殊要求，這種規格的硅溶膠價格相對比較便宜。大粒徑硅溶膠:粒徑＞50nm的硅溶膠一般可稱為大粒徑硅溶膠。吉致電子科技生產的大粒徑硅溶膠最大可達150n

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[吉致動態]硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密[ 2023-01-06 13:52 ]

吉致電子硅溶膠研磨液/拋光液采用的是納米級工藝，主要粒徑在10-150nm。適用于各種材質工件的CMP表面鏡面處理。以硅溶膠漿料為鏡面的平面研磨的材料有半導體晶圓、光學玻璃、3C電子金屬元件、藍寶石襯底、LED顯示屏等高精密元件。硅溶膠拋光液也稱二氧化硅拋光液、氧化硅精拋液，SiO2是硅溶膠的化學名，適用范圍已擴展到半導體產品的CMP拋光工藝中。 CMP拋光機可以將氧化硅研磨液循環引入磨盤，同時起到潤滑和冷卻的作用，通過拋光液和拋光墊組合拋磨可以使工件表面粗糙度達到0.2um

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[行業資訊]半導體拋光液--球型二氧化硅拋光液的用途[ 2022-11-23 15:21 ]

球形硅微粉作為拋光液磨料，可大大提高產品的剛性、耐磨性、耐候性、抗沖擊性、耐壓性、抗拉性、阻燃性、良好的耐電弧絕緣性和耐紫外線輻射性。讓我們來看看球型二氧化硅拋光液在電子芯片中的一些應用。精密研磨粉高純球形硅粉用于光學器件和光電行業的精密研磨，特別適用于半導體單晶多晶硅片、顯像管玻殼玻屏、光學玻璃、液晶顯示器(LCD、LED)玻璃基板、壓電晶體、化合物半導體材料(砷化鎵、磷化銦)、磁性材料等半導體行業的研磨拋光。吉致電子用高純球形硅粉制備成的超高純硅溶膠拋光液slurry,

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[行業資訊]氧化鋁拋光液在藍寶石窗口中的應用[ 2022-09-23 15:36 ]

α -氧化鋁(Al2O3)是眾多氧化鋁晶相中的最穩定的晶體相，它由其他晶相的氧化鋁在高溫下轉變而成，是天然氧化物晶體中硬度最高的物質，硬度僅次于金剛石，遠遠大于二氧化硅溶膠顆粒，它是一種常用的拋光用磨料，被廣泛用于許多硬質材料的拋光上。應用于CMP拋光液制備中，常用于在藍寶石窗口的鏡面拋光工藝中。 α -氧化鋁(Al2O3)其實與藍寶石是同一種物質或材料，材料結構中的原子排列模式完全相同，區別在于多晶體與單晶體。因此，從硬度上講α-氧化鋁(Al2O3)納米粉體與藍寶石晶體的硬度相當，可以用于

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[常見問題]什么是混合磨料拋光液？[ 2022-09-08 16:12 ]

混合磨料拋光液拋磨工件材質的升級和發展，對鏡面要求越來越高，單一的磨料已無法滿足CMP行業需求，研究人員開始嘗試將不同粒徑、不同形貌的一種或多種粒子組合到一起使用，開發出混合型拋光液。比如，在大粒徑二氧化硅中加入小粒徑的氧化硅，這樣能明顯提高拋光速率，且粒徑相差越大提升率越高，這是因為在磨料在總的質量分數不變的條件下，增大小粒徑磨料的占比能增加硅溶膠顆粒的總體數量，從而起到了提高拋光速率的作用。大量的研究成果表明，混合粒子的使用能夠不同程度的提高化學機械拋光的速率，但是對拋光后表面粗糙度

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[常見問題]CMP拋光液中磨料對拋光效果的影響[ 2022-08-30 15:49 ]

磨料對拋光效果的影響在CMP拋光過程中磨料的作用是借助機械力，通過化學反應去除工件或晶圓表面形成的鈍化膜，從而達到表面平坦化的目的。CMP拋光液常用的磨料有硅溶膠SiO2、氧化鋁Al2O3、氧化鈰CeO2、金剛石等。磨料的種類磨料的種類和材質決定了拋光液中微粒的硬度和粒徑，從而影響拋光效果。拋光鋁合金工件實驗中相對于氧化鋁拋光液Al2O3磨料，氧化硅拋光液SiO2磨料能獲得較好的表面平整度、更少的表面劃痕和更小的尺寸。原因是硅溶膠拋光液SiO2磨粒尺寸較小，拋光時磨料嵌入晶圓表面的深度較小。此外，通過優

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[常見問題]吉致電子硅溶膠拋光液的適用范圍[ 2022-08-19 15:44 ]

硅溶膠拋光液又稱氧化硅拋光液，通過離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩定硅溶膠，經過鈍化添加化學助劑和特殊工藝配制成的二氧化硅拋光漿料，廣泛應用于集成電路半導體、特殊材料、金屬工件、脆硬鏡面的拋光。吉致電子25年CMP拋光液生產廠家，可根據客戶不同工藝要求定制調整拋光漿料。氧化硅拋光液主要適用范圍:1.可用于玻璃陶瓷的表面拋光。2.用于硅片和IC加工的粗拋和精拋，適用于大規模集成電路多層膜的平坦化。3.用于半導體元件的加工，如晶圓后道CMP清洗、光導攝像管、多晶化模塊、平板顯示器、微電機系統等。4.廣泛應用于CMP化

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[吉致動態]吉致電子納米氧化硅拋光液的特點[ 2022-08-19 15:29 ]

吉致電子納米氧化硅拋光液的特點:1，可提高工件拋光速率和平坦度加工質量，氧化硅拋光液采用高純納米二氧化硅（SiO2）磨料及多種復合材料配置而成，不會對工件造成物理損傷，拋光率高。2，利用均勻分散的膠體二氧化硅粒子顆粒達到高速拋光的目的。3，硅溶膠純度高，拋光液不腐蝕設備，無毒無害使用安全性能高。4，可實現高平坦化加工。5，有效減少拋光后的表面劃痕，降低表面粗糙度。吉致電子通過科學工藝分散均勻的氧化硅顆粒，得到均勻分散的納米拋光液，具有高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐磨性等特點，是一種性能優良的CMP技術用的

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[吉致動態]鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用[ 2022-08-12 14:17 ]

鏡面拋光液的主要材料是納米二氧化硅磨料，制備成的液體漿料也稱為硅溶膠拋光液。二氧化硅拋光液主要適用于拋光藍寶石襯底、硅片、半導體、精密電子工件、晶體等產品。二氧化硅拋光漿料主要利用硅膠離子的高速拋光來達到表面處理的效果。二氧化硅是用納米技術制成的。根據工件拋磨要求，可制備出不同切削力的產品達到鏡面拋光。粒度控制可以有效減少電子工件上的污垢，使用納米級硅膠顆粒加工工件，不會損傷工件，同時還能達到理想效果氧化硅拋光液需要配合精拋墊使用，精拋墊的主要成分是聚氨酯，聚氨酯的眾多孔隙可以將拋光液均勻地粘在其表面，與工件一起研

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[吉致動態]氧化硅拋光液的結晶問題[ 2022-08-12 13:25 ]

氧化硅拋光液長時間暴露在空氣中，會使水分蒸發剩下固體氧化硅，造成硅晶體析出現象，稱之為結晶。在實際應用時，硅溶膠拋光液會一直在磨盤內旋轉循環及流動，結晶現象較少，但是高溫或拋光液濃度沒有配置好，會造成團聚，損傷工件，影響拋光效果。根據二氧化硅的特性，吉致電子拋光液廠家開發了抗結晶納米二氧化硅拋光液，可以長時間保持氧化硅穩定液體狀態。拋磨工件時易搖散且不團聚，化學性能穩定分散均勻，氧化硅精拋液拋光效率高，能有效縮短工時，磨拋后工件呈現鏡面效果，無劃傷、高平坦。外需要注意的是，氧化硅拋光液的

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[吉致動態]吉致電子---氧化硅拋光液的特點和作用[ 2022-08-04 14:54 ]

氧化硅拋光液的主要成分是高純二氧化硅粉為，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光液。氧化硅溶液其實就是市面上的硅溶膠，當然是二次加工后的硅溶膠。因為硅溶膠是膠狀的，不能直接研磨拋光。這項技術的主要應用是CMP半導體拋光。該技術在相對早期階段就已存在，但市場應用范圍較窄。氧化硅外觀為乳白色懸浮液，呈堿性、中性、酸性。一般時間長了不會有沉淀，但是暴露在空氣中很快就會結晶，有一定的腐蝕性。不銹鋼工件在二氧化硅環境中容易生銹，拋光工件時應及時清洗掉二氧化硅溶液。&n

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[行業資訊]吉致電子--拋光液的主要成分和功能有哪些？[ 2022-07-22 16:52 ]

拋光液的主要成分可分為以下幾類:氧化鋁拋光液、氧化鈰拋光液、金剛石研磨液(聚晶鉆石拋光液、單晶金剛石拋光液、納米金剛石拋光液)、氧化硅拋光液、碳化硅拋光液。硅溶膠拋光液(氧化硅拋光液)是以高純硅粉為原料，通過特殊工藝（如水解法）生產的高純度低金屬離子型拋光產品。廣泛應用于多種納米級材料的高平坦化拋光，如硅晶片、鍺晶片、砷化鎵、磷化銦等化合物半導體材料、精密光學器件、藍寶石襯底、藍寶石窗口等。金剛石拋光液以金剛石微粉為主要成分，高分散配方，硬度高韌性好，有良好的高切削率，不易

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[行業資訊]CMP拋光技術在半導體和藍寶石工件中的應用[ 2022-07-05 15:08 ]

藍寶石襯底拋光用什么工藝可以實現？LED芯片又是怎么實現表面拋光平整的？吉致電子拋光液小編帶您了解！目前LED芯片主要采用的襯底材料是藍寶石，在加工過程中需要對其進行減薄和拋光。藍寶石的硬度高，普通磨料難以對其進行加工。在用金剛石研磨液對藍寶石襯底表面進行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用"軟磨硬"的原理很好的實現了藍寶石表面的精密拋光。隨著LED行業的快速發展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。CMP技術還廣泛的應用于集成電路(IC)和大規模

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[常見問題]氧化硅拋光液顏色的區別[ 2022-06-23 13:42 ]

吉致電子氧化硅拋光液的顏色有白色、乳白色和淺藍色。硅溶膠拋光液顏色不同，其二氧化硅含量和用途也不一樣。一般來說，二氧化硅拋光液顏色越藍，濃度越高，粒度越細。濃度降低顏色就會變白，但是含量過低也會變白，這個要做濃度測試才能判斷。二氧化硅拋光液的顏色不同，拋光工件的類型和粒度也不同。一般鑄造鋁合金的液態二氧化硅是藍色的，且藍色比較透明，這樣的氧化硅粒徑較小，因為鋁合金鏡面的光澤度要求更高。一般來說，工件光澤度要求越高，拋光耗材的粒度越小，這就決定了鋁合金拋光液粒度要達納米級別的原因。拋光不銹鋼金屬的氧化硅溶液一般為乳白

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[行業資訊]吉致資訊第119期藍寶石化學機械拋光液作用研究[ 2017-10-13 16:44 ]

目前，藍寶石基片是LED工業的首選襯底，藍寶石表面的質量對LED器件的質量和性能有著非常重要的影響。因此，在生產藍寶石基片時，對后一道工序拋光加工工序有很高的要求，要求藍寶石基片的表面光滑、無缺陷，這也是藍寶石襯底重要的制程。但是，由于藍寶石晶體材料硬度高，脆性大，屬于典型的難加工材料之一。因此，如何讓拋光加工滿足日益增長的嚴格要求長期以來備受關注。如今的化學機械拋光是一可實現全局平坦化的拋光方法，而且它的成本相對較低，也是迄今為止可以在藍寶石生產中大規模應用的拋光方法。硅溶膠為納米的二氧化硅顆粒，在水中

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