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鎢拋光液/W CMP Slurry/W 拋光液/半導體研磨液
磨料類型：納米SiO2
磨料粒徑：納米SiO2
鎢（W）拋光液·參數吉致電子，W SLURRY 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
產品名稱：鎢拋光液/WCMP研磨液/Wslurry/半導體拋光液
鎢W拋光液作用: 吉致電子鎢W拋光液適用于8-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO2水溶膠為磨料，拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少。與國內外同類產品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特點
在金屬鎢（W）的CMP工藝中，可以分為兩種應用場景：一種是作為上下Layer的連接導線，另一種則是在先進工藝中作為金屬柵極（Metal gate）。無論是哪種應用場景，CMP工藝流程基本相同。
鎢CMP拋光液它主要用于金屬鎢（W）的CMP拋光，以達到精準的表面平整度和厚度控制。半導體W CMP拋光液通常包含了一些化學物質，如氧化劑、酸、堿等，以及磨料等。這些化學物質和磨料的組合可以提供高選擇比和低表面粗糙度的拋光效果。在半導體制造中，W CMP拋光液廣泛用于金屬鎢的制造，如金屬鎢的連接導線和金屬柵極等。
我司產品金屬離子含量低，易清洗，可用于更先進的WCMP。
通風，陰涼，干燥的庫房，本品需在5-35℃儲存，防止陽光直射及凍結，零度以下因產生不可再分散結塊而失效。
吉致電子的CMP金屬拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備，特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。
本土化生產的優勢使吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快，品質好，拋光液價格實惠親民。
吉致電子CMP拋光耗材適用范圍
吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進的生產設備，為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導光板、五金產品、藍寶石、光學玻璃等各類拋光加工服務。為您提供可靠有效的拋光解決方案！
吉致電子研發團隊--15年經驗CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！
無錫吉致電子科技有限公司
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