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地址：江蘇省無錫市新吳區行創四路19-2
SiC碳化硅襯底研磨拋光產品
產品名稱：碳化硅研磨液/碳化硅拋光液/碳化硅SIC研磨墊/Sic精拋墊
產品特點：Politex拋光墊FUJIBO拋光墊國產替代
- 精密陶瓷拋光液 CMP納米級拋光液
- 吉致電子·精密陶瓷件拋光液·半導體拋光液
產品名稱：氧化鋯拋光液/氧化鋁拋光液/氮化硅拋光液/氮化鋁拋光液
產品特點：適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光
- 阻尼布拋光墊/碳化硅精拋墊/Politex拋光墊FUJIBO拋光墊替代
- 吉致電子拋光墊
產品名稱：碳化硅精拋墊/阻尼布拋光墊/絨面拋光墊
產品厚度：0.6mm-3mm（可定制）
產品直徑：φ300-φ1300mm（可定制）
產品特點：Politex拋光墊FUJIBO拋光墊替代
- 半導體拋光液 鈮酸鋰LiNbO3晶圓拋光液
- 產品名稱：鈮酸鋰晶體拋光液/鈮酸鋰拋光漿料/LN拋光液
磨料類型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑：專利化學配方/可定制
碳化硅襯底研磨拋光·工藝吉致電子，CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
產品分類：吉致電子·碳化硅研磨拋光·半導體晶圓拋光
產品名稱：碳化硅研磨液/碳化硅拋光液/碳化硅SIC研磨墊/Sic精拋墊
吉致電子針對碳化硅SIC拋光的4道工藝制程搭配不同型號研磨液、拋光液和拋光墊（粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊）。在研磨和拋光應用中提高碳化硅襯底表面質量，同時顯著提高材料去除率。
產品工藝及用途：適用于SiC碳化硅襯底DMP和CMP工藝制程，有效提升效率以及良率，碳化硅拋光液/拋光墊實現國產化替代。
碳化硅SiC研磨工藝·粗研磨/精研磨
吉致電子SIC襯底CMP粗磨/精磨工藝：Tip1粗磨液+研磨墊，Ra可達1.22nm及以下;Tip2精磨液+研磨墊，Ra可達0.45nm及以下。
碳化硅SiC拋光工藝·粗拋光/精拋光
吉致電子SIC襯底CMP粗拋/精拋工藝：Tip3粗拋液+研磨墊，Ra可達0.13nm及以下;Tip4精拋液+精拋墊，Ra可達0.06nm及以下。
想了解更多碳化硅CMP拋光工藝參數與方案，歡迎來電咨詢
吉致電子SiC碳化硅拋光液儲存方法：
通風，陰涼，干燥的庫房，本品需在5-35℃儲存，防止陽光直射及凍結，零度以下因產生不可再分散結塊而失效。
吉致電子的CMP金屬拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備，特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。
本土化生產的優勢使吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快，品質好，拋光液價格實惠親民。
吉致電子CMP拋光耗材適用范圍
吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進的生產設備，為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導光板、五金產品、藍寶石、光學玻璃等各類拋光加工服務。為您提供可靠有效的拋光解決方案！
吉致電子研發團隊--15年經驗CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！
無錫吉致電子科技有限公司
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磨料類型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒徑：專利化學配方/可定制
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