吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發與生產

氧化硅拋光液·參數吉致電子，CMP拋光材料 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

產品名稱：氧化硅拋光液,硅溶膠拋光液,二氧化硅拋光液,精拋液,納米拋光液

磨料類型：高純納米氧化硅微粒

磨料粒徑：10-150nm（最高可達150nm）

吉致電子氧化硅拋光液懸浮性極佳，高固含量、分散性好，易搖散且不團聚，化學性能穩定。氧化硅精拋液拋光效率高，能有效縮短工時，磨拋后工件呈現鏡面效果，無劃傷、高平坦。

產品工藝及用途：通過離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩定硅溶膠，經鈍化添加化學助劑以及特殊工藝配制的二氧化硅拋光漿料。適用集成電路/半導體/特殊材料/金屬材質/脆硬材料的鏡面拋光。

氧化硅拋光液·晶體形態

吉致電子氧化硅拋光液/氧化硅精拋液/硅溶膠拋光液

可按客戶工藝要求調制硅溶膠拋光漿料

氧化硅拋光液——二氧化硅微粒在拋光工件表面的損傷層極微，硬度和硅片的硬度相近，常用于半導體硅片的拋光。

氧化硅精拋液——采用納米級的硅溶膠有效減小表面粗糙度和損傷層深度。

二氧化硅（SiO₂）是硅溶膠拋光液的重要組成部分，其粒徑大小、致密度、分散度等因素直接影響化學機械拋光的速率和拋光質量。

<吉致電子>氧化硅拋光液特點：

1.分散性好、不結晶。

2.粒徑分布廣泛：5-100nm。

3.高純度(Cu2+含量小于50 ppb)，有效減小對電子類產品的沾污。

4.經特殊工藝合成的化學機械拋光液，納米顆粒呈球形，單分散，大小均勻，粒徑分布窄，可獲得高質量的拋光精度。

5.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。

6.PH、粒徑、穩定離子等可以根據客戶定制(10-150 nm)

拋光過程中具有：

1.高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的。（可以生產150 nm）。

2.高平坦度加工，吉致氧化硅精拋液是利用SiO2的膠體粒子，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工。

拋光過程后具有：

1.精度可以達到納米

2.劃傷和挖傷可以達到0/0

氧化硅拋光液·產品參數

吉致電子氧化硅拋光液/硅溶膠精拋液

 多種型號對應不同磨拋需求（查看更多型號請聯系我們）

吉致電子氧化硅拋光液使用方法：

1.可根據拋光操作條件用去離子水進行5-20倍稀釋。

2.稀釋后，粗拋時調節PH11左右，精拋時調節PH9.5左右。pH調節可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分攪拌下慢慢加入。

3.循環拋光可以用原液。

吉致電子氧化硅拋光液儲存方法：

1.貯存時應避免曝曬，貯存溫度為5-35℃

2.低于0℃以上儲存，防止結冰，在無度以下因產生不可再分散結塊而失效。

3.避免敞口長期與空氣接觸。

吉致電子氧化硅拋光液價格：

吉致電子的氧化硅拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備，特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。

本土化生產的優勢使吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快，品質好，拋光液價格實惠親民。

吉致電子研發團隊--15年經驗CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！

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